近年来，中国在技术自主方面取得了显著进展，但到目前为止，尚未能够研发出与ASML相媲美的光刻设备，这一技术短板给国内半导体行业带来了重大挑战。然而，英伟达CEO黄仁勋认为，中国在未来三到四年内将能够开发出自己的先进光刻系统。他在All-In播客上表示：“到2030年前，他们必将实现这一目标。2030年就在眼前。理解中国，要知道它非常擅长大规模生产。这只是一个时间问题……所以两到三年对于他们而言非常短暂。”外媒指出，黄仁勋对中国技术发展的乐观看法并不罕见，他曾表示中国的人工智能产业与美国前沿实验室密切相关，考虑到中国在这一领域的投资，这种看法或许有其依据。然而，若将视角放大到整体半导体产业，特别是光刻技术方面，他的预判可能显得过于乐观。